高功率脈沖磁控濺射（HiPIMS）是一種先進(jìn)的物理氣相沉積（PVD）技術(shù)，通過在靶材上施加高能脈沖電壓，產(chǎn)生高密度的等離子體。在高功率脈沖模式下，磁控濺射靶材表面形成高密度等離子體區(qū)域，其中的電子與中性原子碰撞，使濺射出的材料原子被有效地離子化，這些離子在電場作用下加速飛向基材并沉積在其表面，形成薄膜。

       適用于最廣范圍的涂層材料和刀具基材，HiPIMS(高功率脈沖磁控濺射)集合了切削刀具所有涂層技術(shù)的優(yōu)點。

HiPIMS優(yōu)勢：

1.HIPIMS+濺射技術(shù)：靈活性、涂層厚度、光滑度;
2.HIPIMS+電弧技術(shù)：附著力、硬度/韌性、沉積速率;

（1）重載切削的完美解決方案，可提供高達(dá)12μm的涂層厚度

（2）切削刃涂層均勻：高離化率使得涂層結(jié)構(gòu)極為致密，保證了高硬度和高韌性。使HiPIMS沉積的涂層非常均勻。

（3）微小徑刀具的首選：無瑕疵、無尖端效應(yīng)。由于無液滴，對切削刃無損害及刃口圓化，因此HiPIMS非常適用于微小徑刀具。
（4）熱過載保護(hù)：HiPIMS涂層結(jié)構(gòu)致密，隔熱性好，有效保護(hù)基體免受熱過載，熱量主要通過切屑排出。
（5）極好的殘余應(yīng)力管理，增大厚度可選性，優(yōu)于電弧及CVD涂層高拉應(yīng)力缺陷。
（6）最大的靈活性：HiPIMS作為濺射工藝靈活性大，可通過元素周期表元素組合獲得無限種涂層。
（6）HiPIMS工藝涂層表面無液滴且極度光滑，優(yōu)于電弧涂層等方法。
（7）超高金屬離化率使涂層附著力強，含硅涂層硬度高，劃痕負(fù)荷達(dá)120N，ALTiN涂層達(dá)130N。

應(yīng)用領(lǐng)域：

1.工具涂層：廣泛應(yīng)用于切削工具、模具和其他工業(yè)設(shè)備的硬涂層。如在刀具上沉積HIPPIMS涂層，可以提高刀具的硬度、耐磨性和潤滑性，降低切削力和摩擦系數(shù)，從而提高加工效率、延長刀具使用壽命，降低加工成本。
2.電子和光學(xué)設(shè)備：在半導(dǎo)體制造中，用于沉積各種功能薄膜，如阻擋層、電極材料、介質(zhì)層等，以提高半導(dǎo)體器件的性能和可靠性；在光學(xué)涂層領(lǐng)域，可制備高折射率、低散射的光學(xué)薄膜，用于光學(xué)鏡片、反射鏡、濾光片等光學(xué)元件，提高其光學(xué)性能和穩(wěn)定性；在太陽能電池領(lǐng)域，HIPPIMS技術(shù)可用于沉積透明導(dǎo)電薄膜、減反射薄膜等，提高太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率。
3.醫(yī)療器械：用于醫(yī)療器械的表面處理，如人工關(guān)節(jié)、牙科植入物、手術(shù)器械等。通過沉積具有良好生物相容性和耐腐蝕性的薄膜，可以提高醫(yī)療器械的抗磨損性能、抗菌性能和生物活性，減少植入物與人體組織之間的摩擦和排斥反應(yīng)，提高醫(yī)療器械的使用壽命和安全性。

       HIPPIMS技術(shù)在真空鍍膜領(lǐng)域具有獨特的優(yōu)勢和廣泛的應(yīng)用前景，隨著技術(shù)的不斷發(fā)展和完善，其性能將不斷提升，成本逐漸降低，應(yīng)用范圍也將進(jìn)一步擴大。